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高纯气体分析仪
参考价:¥1

型号:AnalyElf G60EPD

更新时间:2024-12-21  |  阅读:4077

详情介绍

高纯气体分析仪AnalyElf G60EPD.


概述:

高纯气体分析仪G60EPD是一款痕量气体分析仪,专门应用与高纯气体及电子级工业气体的纯度分析气相色谱仪,具有wu可比拟的检测极限,可以测量zui低水平的杂

随着经济的快速发展,气体纯度分析越来越需要更严格的气体质量控制。现在对于许多气体分析的应用,希望杂质远远低于50 ppb。市场上的其他技术,如放电电离检测器及其变体,比如PIHIDDID等,只能提供50 ppb范围内的检测限,这已经不能满足市场对高纯气体纯度的要求。凭借其超灵敏的增强型等离子体放电(Epd)检测器、高质量的吹扫密封阀(PLSV)组件、信号处理和wu与伦比的分析性能,我们的G60EPD高纯气体分析系统是气体质量认证的交钥匙工具


测量的杂质:

H2, O2, N2, CH4, CO, CO2, Ar, NeKrXeNHMC.


特点:

1、高灵敏度Epd技术,低至 100 ppt的检测极限。

2、一台仪器适用于所有基质气体;

3、采用高可靠的PLSV防泄漏阀技术;

4、搭载带有吹扫的高精度电子气路APC控制器。

5、经济的载气消耗解决方案;

6、可以选择使用氩气载气,运行成本低;

7、多种机型供选择:台式G51G60系列,便携PG20系列,PG6系列。


主要规格:

1、测量范围:10 ppm100 ppm0250 ppb.

2、检测极限:He载气<0.1 ppb, Ar做载气时结合SCS浓缩仪(0.5 ppb/0.1ppb可选)

3、基质:H2, O2, N2,  He, Air, CH4, CO, CO2ArKrNeXe

4、载体气体:氦气He,氩气Ar


其他应用:

SiH4 分析

超高纯二氧化碳分析

超高纯NH3分析

超高纯空气分析。

超高纯CH4分析。

HC1分析。

C4F8分析。



增强型附件介绍:

样品浓缩系统SCS.

高纯气体分析仪

样品浓缩系统 :wu与伦比的样品完整性。

我们的样品浓缩系统(SCS)既可以作为19英寸机架式设备的用于iMOv,也可以作为独立的台式设备用于miniMOv,它是围绕我们的吹扫密封阀(PLSV)捕集和释放阀(T&R)设计的,具有du特的可配置的4步流程,确保样品的完整性。当与我们的电子制冷式冷阱和急速加热器结合使用时,你将受益于(最)好的性能。

特点:

du特的可配置的4步流程:采样、放空样品基质、捕集阱富集和捕集阱释放。

采用吹扫密封阀(PLSV)技术,具有wu可比拟的泄漏完整性

捕集温度低至-30℃,释放温度高至300℃。

弹道式释放温度

分流样品注入

可提供惰性化流路。

典型应用:

挥发性有机物分析。

硫化物分析

缩永jiu气体

任何其他需要浓缩的应用。

任何使用泄漏敏感的检测器应用,如质谱仪

解决方案亮点:

可配置的4步流程.

捕集器隔离步骤改善了色谱法和峰的清晰度

样品基质排放步骤简化并改善了色谱法

由于PLSV技术具有wu可比拟的泄漏完整性,在释放阶段没有检测器基线移动

基质放空功能.

嵌入式样品基质吹扫功能可以吹扫样品基质。例如,氢气基质可以被放空,而我们创新的捕集材料允许永jiu气体浓度达到ppt的检测极限。


高纯气体分析仪

无冷点

当与我们的iMOvminiMOv平台结合时,它不需要加热的传输线。这一设计特点是改进色谱法的关键,因为它减少了冷点的风险。

采用PLSV阀技术

通常情况下,样品浓缩用于痕量测量应用。为了防止污染,样品的完整性是关键。更重要的是,阀门的泄漏会导致基线波动和噪音。我们的样品浓缩仪的性能归结于我们du特的吹扫密封阀(PLSV),当它与嵌入式4步流程相结合时,克服了所有这些问题,提供了wu与伦比的性能。

无泄漏。消除了内侧/外侧和交叉口的泄漏,防止色谱柱污染和基线偏移(来自于空气泄漏)。

改善基线噪音。

嵌入式4步流程,具有独te的基质放空功能。

无死体积。内部流路不包含任何无用体积。





































































































































































































































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